品牌 | 其他品牌 | 貨號 | 123 |
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規(guī)格 | CSF-8-30-2XH-F | 供貨周期 | 一個(gè)月以上 |
主要用途 | 設(shè)備 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
名稱 | 哈默納科 | 用途 | 半導(dǎo)體、機(jī)器人、機(jī)械設(shè)備 |
材質(zhì) | 鋼 | 是否進(jìn)口 | 是 |
同時(shí)研磨加速了電解液及磨料的遷移,使細(xì)小磨料運(yùn)動軌跡的紊亂程度提高。可見,在電解的同時(shí)借助于研磨作用,不僅有利于金屬的去除和表面粗糙度的改善,哈默納科微量加工諧波CSF-8-30-2XH-F而且從根本上解決了傳統(tǒng)加工中小表面粗糙度與高生產(chǎn)效率之間的矛盾。
在該復(fù)合加工中,分散均勻的細(xì)小磨料只能均勻地去除工件表面的鈍化膜,基本避免了切削力對工件基體的作用。從機(jī)理上講,它不會產(chǎn)生明顯的殘余應(yīng)力,并且有可能將原有的表面變質(zhì)層部分或全部去除。由此可見,該種復(fù)合加工是一種高效率且不產(chǎn)生殘余應(yīng)力的鏡面加工方法。可完成平面、圓柱面、球面和自由曲面等的光整加工。
該復(fù)合加工中的研磨作用特點(diǎn)是,哈默納科微量加工諧波CSF-8-30-2XH-F采用粘著或含磨料的粘彈性研磨介質(zhì),在工具陽極達(dá)到一定運(yùn)動速度時(shí),研磨介質(zhì)趨向與工件表面微觀凸峰接觸,研磨介質(zhì)中的磨料將凸峰處鈍化膜去除,再使微量電解蝕除只在此微觀凸部產(chǎn)生,以達(dá)到表面光整加工的目的。
獲得高質(zhì)量加工表面的關(guān)鍵是,合理選擇電解與研磨的參數(shù),以保持兩種作用的均衡關(guān)系。實(shí)踐表明,鏡面加工時(shí)